“Çѱ¹Àº ÇöÀç D·¥°ú ³½µåÇ÷¡½Ã µî ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ °±¹À¸·Î Àü ¼¼°è°¡ ÁÖ¸ñÇÏ°í ÀÖ°í ¹Ì·¡»ê¾÷ÀÎ IT ¹× loT(»ç¹°ÀÎÅͳÝ), AI(ÀΰøÁö´É) µî ÷´Ü»ê¾÷ÀÇ ±Ù°£ÀÎ ¹ÝµµÃ¼»ê¾÷À» ÁÖµµÇØ ³ª°¡°í ÀÖ½À´Ï´Ù. ÀÌ¿¡ ¸Â¹°·Á ¿ì¸® ȸ»ç´Â ¹ÝµµÃ¼ Ư¼ö°¡½º¿Í ÄɹÌÄ® µî ÁÖ·ÂÇ°¸ñ¿¡ ´ëÇÑ °æÀï·Â °È¸¦ À§ÇØ ÇöÁö R&D¿Í ¾ç»êüÁ¦ ±¸Ãà¿¡ ±Û·Î¹ú±â¾÷À¸·Î½á ÃÖ¼±À» ´ÙÇÏ°í ÀÖ½À´Ï´Ù.”
Áö³ 2016³â 10¿ù ¼¼°èÀûÀÎ °¡½º¾÷üÀÎ ¿¡¾îÇÁ·Î´öÃ÷(Air Products)¿¡¼ ºÐ¸® µ¶¸³ÇÑ ¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁî(Versum Materials)´Â ±×µ¿¾È º¸ÀÌÁö ¾Ê´Â ÀÚ¸®¿¡¼ Áö³ 30¿©³â°£ Çѱ¹ÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Àç·á ½ÃÀåÀ» ÁöÄÑ¿Â ÁÖ¿ªÀÌ´Ù.
1980³â´ë Áß¹Ý. ´ç½Ã ºÒ¸ðÁö¿Í ´Ù¸§¾ø¾ú´ø Çѱ¹ÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Ư¼ö°¡½º½ÃÀå¿¡¼ °¢°í(ʾÍÈ)ÀÇ ³ë·Â ³¡¿¡ ¼³¸³µÈ ´ëÇÑƯ¼ö°¡½º(ÁÖ)¿¡¼ ¹ÝµµÃ¼ Àç·áÀÇ ±¹»êÈ ÅõÀÚ¸¦ À̲ø¸é¼ ´ëÇ¥À̻縦 ¿ªÀÓÇÑ À¯Àç¿î »çÀå.
±×µ¿¾È ´ëÇÑƯ¼ö°¡½º, ¿¡¾îÇÁ·Î´öÃ÷ÄÚ¸®¾Æ, ¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁî·Î À̾îÁö¸ç ÁÖÁÖ¿Í »ç¸í¸¸ ¼¼¿ùÀÇ È帧¿¡ µû¶ó ¹Ù²î¾úÀ» »Ó ±×´Â Áö³ 30³â°£ ¿ì¸®³ª¶ó ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ ¿ª»ç ¼Ó¿¡¼ ÀÚ½ÅÀÇ ±æÀ» ¸íÈ®È÷ ÁöÄÑ¿Ô´Ù°í ÀÚºÎÇÑ´Ù.
À¯Àç¿î »çÀåÀº “ºÐ»ç ÀÌÈÄ 1³â¿©°£ ¼ºÀåÅëÀ» À̰ܳ»±â À§ÇÑ Á¦¹Ý¿©°Ç Á¶¼º¿¡ ÃÑ·ÂÀ» ±â¿ïÀÎ °á°ú Áö³ÇØ ±Û·Î¹ú ¸ÅÃâÀº Àü³â´ëºñ 16% ¼ºÀåÇϸç 11¾ï2690¸¸´Þ·¯¸¦ ±â·ÏÇß°í, ÀÌÁß Çѱ¹¿¡¼ Â÷ÁöÇÑ ¸ÅÃâºñÁßÀº ÀüüÀÇ 30% °¡·® Â÷ÁöÇÒ Á¤µµ·Î Çѱ¹½ÃÀåÀº Áö¼ÓÀûÀÎ ¼ºÀåÀáÀç·ÂÀ» º¸À¯ÇÏ°í ÀÖ´Ù”°í °Á¶Çß´Ù.
ÀÌ°°Àº ¼ºÀå¼¼¿Í °ü·ÃÇØ ½ÇÁ¦·Î ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀçºÐ¾ß¿¡¼ ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°±ºÀ» º¸À¯ÇÏ°í ÀÖ´Â ¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁî´Â ¹ÝµµÃ¼ Àç·á¿Í °ø±ÞÀåºñ¿Í °ü·ÃÇØ ¾ÈÀü, Ç°Áú, °ø±Þ ½Å·Ú¼º»Ó¸¸ ¾Æ´Ï¶ó Àç·á¿øõ ±â¼ú, ºÐ¼®±â¼ú, ¾ç»ê±â¼ú ¹× ¿ë±â °ü·Ã ±â¼ú µî¿¡¼ ¿ìÀ§¸¦ Á¡ÇÏ°í ÀÖ´Ù´Â ÆòÀÌ´Ù.
¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁî´Â ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤»óÀÇ ÁõÂø, ½Ä°¢, ¼¼Á¤ µî¿¡ »ç¿ëµÇ´Â N2O, SiH4, SiF4, C4F6, C2H2, NH3, NF4 µîÀÇ Æ¯¼ö°¡½º¸¦ ºñ·ÔÇØ CMP(Chemical Mechanical Polishing) ½½·¯¸®(Slurry), ¼¼Á¤¿ë ÄɹÌÄ® ±×¸®°í ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚ¿ë ¹Ú¸· ÁõÂø°øÁ¤ ¿øÀç·áÀÎ Àü±¸Ã¼(Precursor) µîÀÇ ÁÖ·ÂÁ¦Ç°À¸·Î ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶¸¦ À̲ô´Â ¿ªÇÒÀ» ÃæºÐÈ÷ ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ÇÏÁö¸¸ ÀÌó·³ ´Ù¾çÇÑ Á¦Ç°±º°ú Àü¹®±â¼úÀÌ ÃàÀûµÈ »óȲ¿¡¼µµ ȸ»ç´Â ´õ ³ªÀº ¸¸Á·À» À§ÇØ ²÷ÀÓ¾ø´Â ¿¬±¸°³¹ß¿¡ ³ë·ÂÀ» ¾Æ³¢Áö ¾Ê¾Ò´Ù. ±× °á°ú·Î Áö³ÇØ¿¡´Â °æ±â ¹Ý¿ù°ø´Ü¿¡ 1,000¸¸ºÒÀ» ÅõÀÚÇØ Ã·´ÜÁõÂøÀç·á ±â¼ú¿¬±¸¼Ò ¼³¸³ÇßÀ¸¸ç ¿ÃÇØ´Â 2,000¸¸ºÒÀ» ÅõÀÚÇØ ÆòÅûç¾÷Àå¿¡ CMP Slurry R&D ¼¾Å͸¦ °³¼ÒÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
À̹ۿ¡µµ ÁÖ·ÂÁ¦Ç°ÀÇ ¾ç»êÀ» À§ÇÑ Ç÷£Æ® ½ÅÁõ¼³¿¡ ÇâÈÄ 3³â°£ 5,000¸¸ºÒÀÇ ½Å±Ô ÅõÀÚ¸¦ °èȹÇÏ°í Çѱ¹½ÃÀå ¹× ¾Æ½Ã¾Æ °í°´ ¸¸Á·À» À§ÇÑ Àü·«À» Â÷±ÙÂ÷±Ù ½ÇõÇØ ³ª°¡°í ÀÖ´Ù.
ƯÈ÷ Çѱ¹¿¡¼ÀÇ R&D¿¡ ´ëÇÑ Àû±ØÀûÀÎ ÅõÀÚ´Â Á¦Ç°°ú Ç°Áú¿¡ ´ëÇÑ Àڽۨ°ú ½ÃÀå¿¡ ´ëÇÑ ¼±Á¦Àû ¹æ¾î´É·Â ±¸Ãà ¹× °í°´»ç¿ÍÀÇ ½Å·Ú¸¦ ÅëÇØ ½ÃÀåÀ» Á÷Á¢ÀûÀ¸·Î ¼±µµÇÏ´Â ¸¶ÄÉÆÃÀ» ½ÇõÇÏ°Ú´Ù´Â º»»çÀÇ Àü·«°ú ÇÔ²² ºÐ»ç ÀÌÈÄ ·ÎÄñâ¾÷À¸·Î¼ÀÇ À̹ÌÁö¸¦ ÀçâÃâÇÏ°Ú´Ù´Â ÀÇÁö°¡ °·ÂÇÏ°Ô ¿³º¸¿´´Ù.
ÀÌ¿Í °ü·Ã À¯ »çÀåµµ “¹ÝµµÃ¼ Àç·á »ê¾÷Àº ¿¬±¸°³¹ß ¹× »ý»ê±â¼úÀÇ ÇöÁöÈ°¡ Áß¿äÇÑ °æÀï·ÂÀÎ ¸¸Å R&D¿¡ ´ëÇÑ Áö¼ÓÀûÀÎ ÅõÀÚ¿Í ¿¬±¸ Àηµµ °è¼Ó È®ÃæÇÏ¸ç °í°´ÀÇ ¼ºÀå°ú ´õºÒ¾î ±â¼ú°³¹ß°ú ÀÎÀç¾ç¼ºÀ» ÅëÇØ Ç°Áú°ú ¼ºñ½º¸é¿¡¼ ÃÖ°íÀÇ Á¤Á¡¿¡ ¿À¸¦ °Í”À̶ó¸ç ÀڽۨÀ» ³»ºñÃè´Ù.
ÇöÀç ¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁîÀÇ Æ¯¼ö°¡½º ¹× ¼ÒÀçÀÇ »ý»ê±âÁö´Â ¹Ì±¹(Carlsbad(CA), Hometown(PA), Catoosa(OK), Dallas(TX), Tempe(AZ))°ú Çѱ¹(¹Ý¿ù, ½ÃÈ, ÆòÅÃ, ¿ï»ê), ´ë¸¸(Nanke), ÀϺ»(°¡¿Í»çÅ°) µî 4°³±¹ 12°³ Áö¿ª¿¡ Æ÷ÁøÇØ ÀÖÀ¸¸ç R&D ¼¾ÅÍ´Â ½Å±Ô ÅõÀÚ°¡ ÁøÇàµÇ´Â Çѱ¹(¹Ý¿ù, ÆòÅÃ) ¿Ü¿¡ ¹Ì±¹, ´ë¸¸À» Áß½ÉÀ¸·Î ±¸ÃàµÅ ÀÖ´Ù.
»ç½Ç ¹ö½·¸ÓÆ®¸®¾óÁî´Â »ê¾÷¹ß´ÞÀÇ ÃÊâ±âÀÎ 1960³â´ëºÎÅÍ ºÒ¼Ò°è F2, NF3¸¦ »ó¾÷»ý»êÇϸç Ư¼ö°¡½º »ç¾÷¿¡ ÁøÀÔÇßÀ¸¸ç 80³â´ë¿¡ µé¾î¼´Â ¹ÝµµÃ¼¿ë WF6, CF4, Precursor µîÀ» »ý»êÇϸç Ư¼ö°¡½º »ê¾÷ÀÇ ¿ª»ç¿¡ ȹÀ» ±×À¸¸ç ±â¼ú·Â°ú °æÀï·ÂÀ» Áõ°Çϸç Áö±Ý¿¡ À̸£·¶´Ù.
Çѱ¹³» ¹ö½·ÀÇ »ç¾÷ºÐ¾ß´Â ÀüÀÚ¼ÒÀç ºÎ¹®¿¡¼ ¹Ú¸·ÀÇ ÁõÂø Àç·áÀΠƯ¼ö°¡½º¿Í PrecursorÀÇ Á¦Á¶, °ø±Þ°ú CMP Slurry ±×¸®°í ¿¡Äª(Etch), µµÇÎ(Doping)¿ë Ư¼ö°¡½º Á¦Á¶ ¹× °ø±Þ ±×¸®°í Ư¼ö°¡½º¿Í ÄɹÌÄ® °ø±ÞÀåÄ¡ ¹× ¼ºñ½º ºÎºÐÀ» ´ã´çÇÏ´Â ÇѾç±â°ø µîÀÌ ¿Õ¼ºÇÑ È°µ¿À» ÇÏ°í ÀÖ´Ù.
Áö³ ¿¬¸» ¹Ì±¹ÃâÀå¿¡ ÀÌÀº ½Å³â »ç¾÷±¸»ó°ú °ü·ÃÇØ À¯Àç¿î »çÀåÀº “¿ÃÇØ´Â ‘º¯°î(ܨÍØ)ÀÇ ÇØ’°¡ µÉ °ÍÀÔ´Ï´Ù. ºü¸§º¸´Ù ´õ ºü¸£°Ô º¯ÈµÇ´Â Çõ½ÅÀÇ ¼Óµµ¸¦ ¹è°¡½Ãų ¼ö ÀÖ´Â ±â¹ÝÀ» ±¸Çö½ÃÅ°°í ¿µ¾÷ÀûÀ¸·Î´Â °ø°ÝÀû ¸¶ÄÉÆÃÀ» À̾ °èȹ”À̶ó¸ç Á¶¸¸°£ »õ·Î¿î Á¦Ç°ÀÇ Ãâ½Ã¿Í ÇÔ²² º¯Çõ¿¡ ´ëÇÑ °¢¿À¸¦ Ç¥ÃâÇß´Ù.
ÀÌ¿¡ µ¡ºÙ¿© “Àú°¡°ø·«°ú ¹°·®°ø¼¼¿¡ ±×Ä¡´Â °æÀﺸ´Ù´Â ¾ÈÀü°ú Ç°ÁúÀ» ¿ì¼±À¸·ÎÇÑ °í°´°úÀÇ Á¤Á÷ÇÏ°í Á¤È®ÇÑ Ä¿¹Â´ÏÄÉÀ̼ÇÀ» ÅëÇØ ÁøÁ¤ÇÑ ÆÄÆ®³Ê½±À» âÃâÇÏ´Â °ÍÀÌ ¿ì¸® ȸ»ç°¡ ÁöÇâÇÏ´Â ¿µ¾÷Á¤Ã¥”À̶ó¸ç ÇÕ¸®ÀûÀÌ°í È¿À²¼ºÀ» À¶ÇÕÇÑ ¼±Á¦Àû ½Å·Ú¸¦ ½×°Ú´Ù´Â ÀÔÀåÀ» ÀüÇß´Ù.
¸¶Áö¸·À¸·Î Áö³ÇØ ¸» Á¤ºÎ·ÎºÎÅÍ °í¿ëÁõ´ë¿Í ÅõÀÚÀ¯Ä¡ÀÇ °ø·Î·Î »ê¾÷Æ÷ÀåÀ» ¼öÈÆÇÑ À¯Àç¿î »çÀåÀº »ê¾÷ ƯÈ÷ ¹ÝµµÃ¼ÀÇ ¹ßÀü ¼Óµµ°¡ ºÎÇ°¼ÒÀçÀÇ »ó¾÷»ý»êº¸´Ùµµ R&D ÅõÀÚ°¡ ¿ì¼±µÅ¾ßÇÏ´Â ¿©°Ç ¼Ó¿¡¼ ¿Ü±¹±â¾÷ÀÇ ÅõÀÚÀ¯Ä¡¸¦ ÅëÇØ Çѱ¹ ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ »ýÅ°踦 È®´ë½ÃÅ°±â À§ÇÑ Á¤Ã¥ÀûÀÎ Áö¿øÀÌ È°¹ßÈ÷ ½ÇÇàµÉ ÇÊ¿ä°¡ ÀÖ´Ù°í ÁöÀûÇß´Ù. |