엑시머 레이저용 Ne도 국내 생산

산업용가스와 특수가스 전문업체인 대성산업가스(주)(대표 김형태, 김신한)가 반도체 및 OLED 제조공정상 실리콘옥사이드(SiO2) 산화막 증착용 고순도 N2O의 생산능력을 年産 4,300톤 규모로 대폭 확장했다고 밝혔다.

이 회사는 반도체 산업 등의 성장과 더불어 매년 수요가 지속적으로 증가하고 있는 고순도 N2O의 공급 안정성을 위해 지난 12월에 年産 1,700톤 규모의 기존 1공장 생산능력과 더불어 2,600톤을 증설한 제 2공장을 완공하고 본격적인 생산에 돌입했다.

그동안 이 회사는 디스플레이 및 반도체 산업에서 공정용으로 사용되는 특수가스인 모노실란(SiH4), 육불화황(SF6), 암모니아(NH3), 포스핀(PH3) 혼합가스, 디클로로실란(DCS), 액체헬륨(LHe), 사불화탄소(CF4), 엑시머레이저가스 등을 정제, 충전, 제조하고 있다.

또한 최근에는 국내에서는 유일하게 엑시머 레이저(Excimer LASER) 가스의 주요 원료인 네온(Ne)을 직접 생산하고 있으며 추가적으로 공기분리를 통해 제논(Xe), 크립톤(Kr) 등 희가스의 국내 제조를 적극적으로 검토하고 있는 것으로 전해졌다.

이와 함께 대성산업가스는 자체 기술로 연구 개발을 마친 주요 특수가스의 상용화를 위한 투자를 지속적으로 추진해 나간다는 계획이다.

특수가스영업본부의 이원호 전무는 “이번 아산화질소 제조설비 증설을 통해 국내 주요 반도체, 디스플레이 분야 고객뿐만 아니라 일본, 대만, 중국 등 해외 고객들에게도 고품질의 제품을 안정적으로 공급할 수 있게 됐다”며 “앞으로도 고객사의 차세대 반도체 및 OLED 양산에 크게 기여할 수 있을 것으로 기대한다”고 말했다.