반도체관련 장비제조업체인 ㈜아토(대표 문상영)가 반도체제조사에 공급이 가능한 고순도 N2O(아산화질소)의 제조대열에 참여키로 했다.
따라서 아토는 매년 10～20%의 성장세를 보이고 있는 반도체제조용 N2O 시장에 대비하기 위해 최근 자체 개발한 정제기와 정류탑을 통해 고순도 N2O 정제기술의 상용화에 성공하고 시제품에 대해 이미 표준과학연구원과 삼성반도체에 제품분석을 의뢰했다.
이번에 아토가 추진한 고순도 N2O 정제기술은 저순도(99.9%)의 원료를 흡착방식과 증류방식을 통해 99.9999%이상의 초고순도 제품생산이 가능하다는 것이 자랑이다.
고순도 N2O는 반도체 CVD공정시 산화막 형성 과정에서 다량 사용되고 있다.
아토의 한 관계자는 “그동안 N2O를 비롯한 고순도가스를 비롯한 특수가스는 대한특수가스, 프렉스에어코리아, 대성산소 등이 외산제품을 수입해 왔다”고 설명하고 “N2O 정제기술을 비롯한 아토의 가스와 관련한 기술력은 향후 국내 관련업체들에게 상당한 수입대체 효과를 가져다 줄 수 있을 것”이라며 가스사업에 대한 진출을 가시화했다.
아토의 문상영 사장은 “국내 반도체용 N2O 시장은 3～4개에 불과한 제조업체를 통해 연간 4백여톤을 생산하고 약 45억원의 시장규모를 나타내고 있다”며 “이번 제품개발은 증류방식의 정제기술 확보와 국내 시장 수요변화에 보다 능동적으로 대처할 수 있는 등의 파급효과를 누릴 수 있다”고 설명했다.
특히 아토는 대부분 가스의 정제원리가 대부분 유사한 만큼 N2O이외에도 향후 NH3, CO2, He, 혼합가스 등 각종 고순도 가스정제기 개발과 함께 반도체용 가스제조에도 직접 참여할 것으로 전망된다.
