한국 내 전자 업계 통합 허브 구축

바스프가 전라남도 여수에 전자소재 생산공장을 완공하고 10나노미터(㎚) 이하 반도체 미세공정을 겨냥한 초고순도 암모니아수(Ultra-pure NH4OH) 생산에 나선다.

바스프는 지난 11월 27일 서울 대한상공회의소에서 기자간담회를 열고 이 같은 사업 계획을 밝혔다. 바스프의 한국 내 첫 전자소재 생산공장인 이번 여수공장은 대만에 이은 두 번째 반도체용 초고순도 암모니아수 생산공장이다. 여수공장에서 생산하는 반도체용 초고순도 암모니아수는 10㎚ 이하 미세공정에 활용된다.

신규 공장은 최첨단 분석 실험실 등 국내 최고 수준의 인프라를 갖추고 있으며 국내외 전자업계 고객들의 수요에 따라 추가 증설이 가능하도록 설계 됐다. 또한 신규 공장에서 생산되는 제품은 10 나노미터 이하의 차세대 반도체에 사용된다. 특히 회사는 차세대 반도체 공정에 사용하는 세정·에칭용 혼합물 등을 양산하기 위한 설비 확장도 진행하고 있다. 뿐만 아니라 향후 반도체용 초고순도 암모니아수뿐만 아니라 디스플레이 코팅액 등 다른 전자소재도 생산할 예정이다.

회사 측은 국내를 넘어 아시아 지역으로 수출, 역내 증가하는 수요에 대응한다는 계획이다.

이날 보리스 예니쉐스 바스프 아태지역 전자재료 사업본부 사장은 “바스프는 한국에 전자소재 생산공장을 마련하면서 기술혁신부터 양산에 이르는 단일 생태계를 구축했다”며 “연구에서 대량생산으로 이어지는 소요시간을 단축하는 동시에 미래 설비확장 가능성까지 고려했다”고 설명했다.

한국바스프 신우성 대표는 “지난 60여 년간 한국에서 지속적으로 투자를 늘려온 바스프는 이번 여수 전자소재 생산공장 설립을 통해 국내 제조 역량을 보다 공고히 하는 한편 글로벌 시장에서 한국 기업의 경쟁력을 높이는데 일조할 것으로 기대한다”고 설명했다.

바스프가 한국에 투자를 거듭하는 이유는 시장성 때문인 것으로 알려졌다. 국내에는 SK하이닉스와 삼성전자 등 주요 반도체 기업과 전자기업이 밀집해 있고 이들 기업이 설비투자를 대폭 늘리면서 바스프도 국내 인프라 투자를 거듭하고 있다. 바스프는 여수공장 완공으로 바스프 매출이 5~10년 내 약 1억유로(약 1,300억원) 증가할 것으로 예상했다.

한편 지난 2013년 아시아태평양 지역 전자소재 사업본부를 서울에 설립한 바스프는 이듬해 경기도 수원에 아태지역 전자소재 R&D센터를 개소했다. 올 초 글로벌 디스플레이 조직을 서울로 이전한데 이어 이번 신규 공장 완공으로 제조 역량까지 갖추며 전자 업계 통합 허브 구축을 완성하게 됐다. 바스프는 현재까지 약 5,000만달러(약 540억원)를 한국에 투자했으며 지난해 한국에서 11억유로(약 1조4,280억원)의 매출을 기록했다.