AGA는 최근 Clare社, MPC社, Douglas-Hanson社 등 3개사와 자사의 초고순도 질소발생기(제품명:Mini-GAN)를 공급키로 계약했다고 밝혔다.
먼저 AGA는 반도체 제조.디자인 업체인 Clare社가 비버리힐즈에 건설중인 고전압 반도체 생산플랜트에 Mini-GAN을 공급한다. 이 설비에서 AGA의 Mini-GAN은 99.999% 순도의 질소를 시간당 6천3백scf 생산하게 된다.
또한 AGA는 오하이오州에 위치한 제강업체인 MPC社에도 질소발생기를 공급한다. 여기서 Mini-GAN은 시간당 9천1백scf의 초고순도 질소를 생산하게 되며 MPC社는 이 질소를 퍼지(purge)와 제련공정에 활용할 계획이다.
MPC社에 제공되는 Mini-GAN는 콜드박스, 분리컬럼(separation column), 컴프레셔 등으로 구성되어 있으며 향후 일주일 이내에 가동이 가능한 상황이다.
특히 AGA의 Bozrah플랜트와 모뎀을 통한 원격지 연동시스템을 갖추고 있어 AGA는 원거리에서 MPC社 플랜트의 모니터링과 생산관련 데이터 분석이 가능하다.
테이프, 라벨, 자동차, 건설 및 의료 등에 사용되는 각종 종이, 부직포, 필름 등을 생산하는 Douglas-Hanson社도 AGA의 ‘CRYOSS 초저온 질소발생기’를 도입키로 결정했다. 이 제품은 시간당 2만5천scf의 고순도질소를 생산할수 있으며 Douglas社는 이를 용매 대용으로 사용중인 전자빔(EB)이나 자외선 절단공정 등에 사용할 계획이다.
이와관련 Clare社의 Scott Jines 부사장은 “AGA의 최신 질소발생기를 도입함으로서 기존 액체질소 공급방식에 비해 상당한 비용절감효과가 기대된다”고 밝혔다.
