에어프로덕트는 최근 반도체 장비업체인 SC Fluids社와 공동으로 반도체 웨이퍼에 사용되는 감광액의 제거촉매를 공동개발하기 위해 전략적 제휴를 체결했다고 밝혔다.
현재 양사가 개발에 주력하고 있는 반도체용 감광액 제거촉매는 바로 임계초과(supercritical) 상태의 탄산(CO2)를 활용하는 것. 산업용가스에 노하우를 지닌 에어프로덕트와 임계초과 물질을 활용한 각종 설비 및 공정에 강점을 가진 양사가 신제품 개발을 위해 제휴를 한 배경도 여기에 있다.
이와 관련 에어프로덕트는 “임계초과 탄산의 경우 기존 제품들에 비해 환경에 전혀 피해를 주지 않는다”며 “최근 전세계 반도체 업체들이 클리닝 공정에 효과적이면서도 환경친화적인 물질을 선호하고 있는 추세에 부응하는 최적의 제품”이라고 설명했다.
실제로 탄산은 임계초과 상태에 이르면 강력한 용매의 역할을 수행하는데 지금까지 감광액의 제거에 사용해왔던 산(酸)과는 달리 환경오염없이 재활용 및 재이용될 수 있다는 것이 장점이다.
그러나 이러한 임계초과 탄산도 대량으로 사용될 경우에는 대형 배출장치나 온사이트 저장장치 등 다각적인 정화장치가 요구된다.
에어프로덕트의 Gerald G. Ermentrout 부사장은 “바로 이점이 자사가 개발에 참여한 이유”라며 “에어프로덕트가 보유한 전문적 지식과 전세계 네트워크를 통해 임계초과 탄산의 성공적인 상품화에 기여할 것”이라고 밝혔다.
SC Fluids社의 Alvan F. Chorney 사장도 “IBM, 로스알라모스 국가연구소 등 이미 연구에 참여한 업체들에 더해 이번 에어프로덕트의 가세로 제품개발이 한층 가속화 될 것으로 기대한다”고 밝혔다.
