한국표준과학연구원은 지난 24일 대전 대덕연구단지내 표준연 기술지원동 세미나실에서 ‘제1회 반도체 분야 산학연 기술교류회’를 개최했다.
산업자원부와 한국반도체연구조합의 후원으로 열린 이번 기술교류회는 국산 반도체소재의 국제경쟁력 확보를 위한 기술동향파악과 기술교류를 위한 것으로 반도체가스분석을 비롯 박막물성평가, EMC 등 3개 분야에서 총 13개의 주제발표가 이루어졌다.
특히 산업용가스업계의 관심을 모았던 반도체 가스분석 분야에는 대한특수가스 김동후 차장의 ‘반도체가스의 국내 생산현황’ 발표를 시작으로 반도체장비업체인 아토의 이효석 박사, 한국가스안전공사 김영구 박사, 표준연 김진석 박사가 각각 ‘가스 스크러버의 최신 기술현황’, ‘반도체가스의 안전관리’, ‘반도체 가스의 분석’ 등의 주제를 발표했다.
이날 대한특수가스의 김차장은 “국내 반도체특수가스의 제조는 지난 86년 자사가 일본 TAKACHIO社와의 기술합작으로 N2O, PH3 등을 생산한 것이 효시”라고 말하고 “반도체용 재료가스는 공정중 불순물 혼입방지가 관건이기 때문에 현재 Barrel Polishing, 고진공용 터보펌프, RGA 등을 채용해 충전용기의 내면처리 및 진공, 퍼지(purge) 등에 많은 노력을 기울이고 있다”고 설명했다.
한편 이번 반도체가스분석세미나에는 산업용가스업계 관계자를 비롯 반도체업계, 학계, 관계 전문가 등 50여명이 참석해 열띤 토론을 벌였다.
