에어프로덕트는 최근 샌프란시스코에서 개최된 ‘세미콘웨스트 2001’행사에서 CVD룸에서 활용 가능한 새로운 방식의 최적화된 원격 NF3플라즈마 공정기술을 발표했다.
에어프로덕트 전자공학부문을 책임지고 있는 Andrew D. Johnson박사는 지난 16일 세미콘웨스트2001 행사기간중 부대행사로 열린 프리젠테이션을 통해 ‘저비용의 CVD룸 청정유지를 위한 최적화된 원격 NF3플라즈마 공정’이라는 논문을 발표, 관심을 끌었다.
이 논문은 기존방식에 비해 가스사용량을 줄이면서도 같은 시간동안 보다 효율적인 CVD룸의 청정률을 유지하는 방법에 대해 설명하고 있다.
Johnson박사는 먼저 논문을 통해 “NF3는 환경친화적인 물질이며 낮은 가격대비 탁월한 청정효과를 지니고 있어 반도체 제조시 CVD룸 청정화를 위해 사용되는 차세대 물질로 부각되고 있다”고 전제하고 “특히 세계반도체협회(WSC)가 추구하는 PFC감소 전략을 충족시킴은 물론 기존 situ PFC 플라즈마 방식에 비해 낮은 CVD룸 손상과 높은 청정도 유지가 가능하다”고 설명했다.
그는 이어 “한국의 삼성전자에 제품을 공급하면서 높은 NF3 유입량과 아르곤/NF3의 공급률 확대, 그리고 낮은 압력이라는 3대조건을 충족시킨 결과, 동등수준의 청정도를 유지하면서도 23%의 NF3사용량을 줄일 수 있었다”고 밝혔다. 또한 이 경우 같은 양의 NF3로도 기존방식대비 약 25%정도 신속한 청정상태 유지가 가능한 것으로 나타났다.
