성원에드워드·비오씨가스, 삼성전자와 On-Site 가스공급계약

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성원에드워드·비오씨가스, 삼성전자와 On-Site 가스공급계약반도체신규라인 공급용 플랜트로 시간당 1만㎥ 규모 예상

i가스저널 | webmaster@igasnet.com

승인 2005.01.26

최근 반도체관련장비 및 F2 제너레이터 제조업체인 성원에드워드㈜(대표 김정영)가 삼성전자 화성공장의 H2, H3 프로젝트 신규(16)라인에 투입되는 반도체가스공급업체로 선정된 것으로 전해졌다.

이에 따라 2006년 상반기에 삼성전자에 가스를 공급할 계획으로 관계사인 ㈜비오씨가스코리아(대표 데이브 테일러)를 통해 내년 2월 이후부터는 플랜트 건설공사에 착수할 것으로 보인다.

삼성전자 화성공장 부근인 기흥지역에 건설되는 예상되는 초기 플랜트 규모는 질소기준으로 시간당 약 10,000㎥로 추정되며 향후 삼성전자의 증설추진에 따라 10년 장기계획으로 지속적인 증설이 이어질 것이라는 게 관련업계의 전망이다.

현재까지 알려진 바로는 질소, 산소, 아르곤의 경우 프렉스에어코리아㈜(대표 이강호) 기흥공장과 공동으로 공급이 추진되며 수소는 전량 성원에드워드 측에서 담당한다는 것이다.

따라서 성원에드워드는 삼성전자 공장인근의 부지매입 및 가스공급협력 등 프렉스에어코리아측과의 긴밀한 협조체제 구축에 대한 협의를 진행중인 것으로 알려졌다.

한편 이번 삼성전자와의 플랜트 건설을 통한 파이프라인 공급계약은 영국 비오씨가스가 국내 산업용가스시장에 진출한 지 16년만에 처음으로 수주한 온사이트형 단독 프로젝트이다.

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