에어리퀴드가 반도체 및 TFT-LCD 시장에서의 특수가스 수요증대에 부응하기 위해 초고순도 모노실란(SiH4)의 생산능력 확충에 나선다.
이 회사는 최근 “반도체, TFT-LCD, 태양광 등 3대 SiH4 수요산업들이 연간 20% 이상의 고성장세를 구가하고 있다”며 “공급의 안정성과 신뢰성 확보를 위해 일본 덴카그룹과 조인트벤처 방식으로 운영중인 데날(denal) 초고순도 SiH4플랜트의 생산능력을 연간 500톤 증강키로 결정했다”고 밝혔다.
이번 설비증설을 위해 양사는 총 3천만유로(약 3백74억원)의 자금을 신규투자할 계획이며 오는 2008년내 상용가동을 목표로 금명간 플랜트 건설에 돌입할 예정이다.
에어리퀴드는 설비증설이 완료되면 이곳에서 생산된 초고순도 SiH4를 일본, 한국, 중국 등 아시아 지역은 물론 미국과 유럽 등지의 고객들에게도 공급한다는 방침이다.
이 회사의 Christophe Fontaine 전자그룹부문 부사장은 “에어리퀴드의 자회사인 재팬에어가스는 지난 4년간 무려 3억유로(약 3천7백41억원)의 투자를 단행했을 만큼 일본과 아시아지역에서 선도기업의 입지를 구가하고 있다”며 “이번 설비증설로 실란 및 특수가스 분야에서 에어리퀴드의 리더쉽을 한층 강화할 수 있을 것”이라고 강조했다.
한편 에어리퀴드는 지난해 특수가스 분야에서만 총 2억5천만유로(약 3천1백17억원)의 매출을 올린바 있다.
