㈜아토, 삼성전자와 ‘F2 발생장치’ 국산화 추진

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㈜아토, 삼성전자와 ‘F2 발생장치’ 국산화 추진생산기술硏과 60억원규모 청정생산기술사업 협약 체결

i가스저널 | webmaster@igasnet.com

승인 2003.09.15

최근 C2F6, CF4, NF3 등 반도체용 특수가스의 대체물질로서 불소(F2)에 대한 관심이 높아지고 있는 가운데 반도체용특수가스 및 장비제조업체인 ㈜아토(대표 문상영)가 삼성전자와 함께 ‘불소 발생기’의 국산화에 나선다.

지난달 29일 아토는 “국무총리실 산업기술연구회 산하 한국생산기술연구원과 불소발생장치 및 불소계 혼합가스 등을 개발하는 청정생산기술사업 과제 협약을 체결했다”고 밝혔다.

이번 협약은 산업자원부가 지원하는 국책과제로 생산기술硏이 총괄하고 있으며 삼성전자가 대표주관기관, 아토가 세부주관기관으로 선정돼 향후 3년간 불소발생장치 및 설치.운영기술, 불소세정용 CVD(화학기상증착) 장비, 불소계 혼합가스 등을 공동개발하게 된다.

투자비는 총 60억원으로 정부와 참여업체 2개사가 각각 50%씩 부담하게 되며 아토는 올해 연말까지 관련시제품을 출시한다는 방침이다.

양사는 이를통해 불소발생기 및 응용기술이 국산화되면 지구온난화 물질인 기존 반도체 세정용 PFC가스(perfluorocarbon)를 환경친화적 고순도 불소가스로 대체함으로서 막대한 수입대체효과는 물론 반도체 생산성 향상, 환경보호 등이 기대된다고 설명했다.

한편 지난 99년 세계반도체협의회(WSC)는 지구온난화물질로 규정된 반도체 세정용 PFC가스의 사용을 오는 2010년까지 1997년 수준의 10% 이내로 자발적으로 감축키로 합의한바 있다.

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